|
加速断层扫描成像速度，运用具有出色斑状剖面的 FIB 束流填补微纳加工空白。
Crossbeam 系统将 GEMINI 镜筒的成像和分析性能与用于纳米级材料加工和样品制备的新一代聚焦离子束相结合。借助模块化平台的设计理念和易于扩展的开放式软件架构，即便是难于成像、充电或磁性样品，它也能高效地完成纳米断层成像和纳米加工。
在更短时间内收集更丰富的信息
加快纳米断层成像和纳米加工的速度：将低电压 SEM 性能与高达 100 nA 的 FIB 束流相结合。
获取最丰富的信息：运用多探测器采集及同步刻蚀与成像能力。
使用 GEMINI 技术和可选配的 ATLAS 3D 软件包检测高达 50 k x 40 k 像素的大视野范围。
全方位流程控制
在对环境条件要求苛刻的长时间实验中具备最高稳定性，并能够提供均匀一致的光束剖面。
采集时可以完成系统参数的实时更改，如探针电流或加速电压，而无需对图像进行调整。
图形用户界面操作直观简便。
具有最高灵活度
通过选用大量的探测器和附件实现系统快速升级。
针对不同的原位实验来定制您的系统。
开放应用程序接口（API）能让用户访问每个显微镜参数。
配有GEMINI I VP镜筒的Crossbeam 340
在多用途环境下实现最大样品灵活性。
执行放气或充电样品的的原位实验。
可选配的 Inlens Duo 探测器能够提供独一无二的 GEMINI 材料衬度。
配有GEMINI II镜筒的Crossbeam 540
配有双聚光镜系统，即便在低电压和高束流下仍能提供高分辨率。
借助高分辨率成像和快速分析在更短时间内获取更丰富的信息。
同步 Inlens SE 和 EsB 成像可以提供独特的形貌和材料衬度。
|
